savina MX日本超细纤维无尘布 24X24 MX100 净化车间专用 液晶

savina MX日本超细纤维无尘布 24X24 MX100 净化车间专用 液晶

• 掉毛量极少。
• 迅速而积极地吸收并留住水分。
• 残留离子和其他物质的溶解率较低。
• 具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量最大，同时不会污染无尘室设备）。日本savina MX超细纤维无尘布
  Savina MX是日本KBSEIREN株式会社（原KANEBO）开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品，吸水吸油性极强，不磨损原件。广泛用于光学镜头制造，办公器材保养，10级以上的无尘车间净化室，半导体生产线车间等领域。
  规格：24CM X 24CM
  包装：100片/包Savina高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
  无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能好的擦拭布之一，专为高科技时代而设计
  超级高收缩、高密度整理产品
  
  Savina MX的横截面Savina MX的横截面
  
  Savina MX的表面Savina MX的表面
  
  Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
  特　色
  掉毛量极少。
  迅速而积极地吸收并留住水分。
  残留离子和其他物质的溶解率较低。
  具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量最大，同时不会污染无尘室设备）。
  用　途
  用途
  光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  光盘和磁盘的生产过程
  录像机的生产过程
  隐形眼镜的生产过程
  相机装配线
  印刷电路板的清洁工艺
  相机镜头镀膜前的清洁工艺
  药品生产线清洁工艺
  电影胶片清洁工艺
  半导体和基础电路的生产过程
  精密涂层之前工件的清洁过程
  日本KANEBO公司生产的HITECLOTH超细纤维无尘布是由Belima.X织成，其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理，不会掉绒毛，超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养
  规格：24CM X 24CM
  包装：100片/包