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纤维无尘布 洁净无尘室用布无尘净化车间 实验室擦试布 洁净布

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纤维无尘布 洁净无尘室用布无尘净化车间 实验室擦试布 洁净布

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量大,同时不会污染无尘室设备)。日本savina MX超细纤维无尘布
    Savina MX是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包Savina高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
    无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能很好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计
    超级高收缩、高密度整理产品

    Savina MX的横截面Savina MX的横截面

    Savina MX的表面Savina MX的表面

    Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
    特 色
    掉毛量极少。
    迅速而积极地吸收并留住水分。
    残留离子和其他物质的溶解率较低。
    具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量大,同时不会污染无尘室设备)。
    用 途
    用途
    光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
    液晶偏转板以及其他物品的生产过程
    光盘和磁盘的生产过程
    录像机的生产过程
    隐形眼镜的生产过程
    相机装配线
    印刷电路板的清洁工艺
    相机镜头镀膜前的清洁工艺
    药品生产线清洁工艺
    电影胶片清洁工艺
    半导体和基础电路的生产过程
    精密涂层之前工件的清洁过程
    日本KANEBO公司生产的HITECLOTH超细纤维无尘布是由Belima.X织成,其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包
Guanliyuan

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