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savina MX擦镜布

  1. SAVINA MX/Hitecloth光学玻璃专用拭镜布,镜面镜片擦拭,精密涂装清洁,光学电子元器件清洁,无尘室实验室设备保养,摄像头,显微镜,精密光学,半导体生产线,LCD,光罩,洁净车间擦拭保养,无尘环境CLASS10,CLASS100,CLASS1000级等各种环境.ISO 5-10
  2.  
  3. 高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严

格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的***无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。

超级高收缩、高密度整理产品

  1.  

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

特 色

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量,同时不会污染无尘室设备)。

用 途

  • 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
  • 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
  • 光盘和磁盘的生产过程
  • 录像机的生产过程
  • 隐形眼镜的生产过程
  • 相机装配线
  • 印刷电路板的清洁工艺
  • 相机镜头镀膜前的清洁工艺
  • 药品生产线清洁工艺
  • 电影胶片清洁工艺
  • 半导体和基础电路的生产过程
  • 精密涂层之前工件的清洁过程

规格/包装:24cm x 24cm   10片/小包    100片/大包

                     15cm x 15cm   100片/小包   200片/大包

  1. Savina Minimax是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。cleanroom wiper ,优斯特长期供应日本正宗无尘室SAVINA MX擦拭布,欢迎咨询.0755-81773990
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