savina MX超细纤维无尘布，日本正宗原装savina MX无尘布，欢迎来电咨询，我们的产品现货供应，特殊型号需要特殊定做，原KANEBO无尘布，KBSEIREN savina Minimax无尘擦拭布
日本原装正宗的savina minimax擦拭布，进口品牌，值得信赖，我们坚信以自己的优质产品及服务去打动所有客户
产品简介：
高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina MX超细纤维擦拭布能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能好的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。
超级高收缩、高密度整理产品
Savina MX超细纤维无尘布在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
特点：
■ 掉毛量极少。
■ 迅速而积极地吸收并留住水分。
■ 残留离子和其他物质的溶解率较低。
■ 具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量最大，同时不会污染无尘室设备）。
用途：
■ 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
■ 液晶偏转板以及其他物品的生产过程
■ 光盘和磁盘的生产过程
■ 录像机的生产过程
■ #的生产过程
■ 相机装配线
■ 印刷电路板的清洁工艺
■ 相机镜头镀膜前的清洁工艺
■ 药品生产线清洁工艺
■ 电影胶片清洁工艺
■ 半导体和基础电路的生产过程
■ 精密涂层之前工件的清洁过程
规格：
7cm*7cm
15cm*15cm
24cm*24cm
品牌：KBSEIREN
原品牌：KANEBO SAVINA MINIMAX
日本钟纺制造
产地：日本
销售员：黄先生
PS-2镜头擦拭纸
Bemliese的特长是低生尘性，良好的吸水性，耐热性，擦拭性以及其杂质很少的特性。 其是以纤维素100％的铜氨丝纤维制成的具有分解性的材料，所以是良好的环保型素材。 铜氨纤维因为使用的是未被利用的纤维，所以被认定为环保标志商品， 并以医用纱布、擦拭纸等产品名称在广泛领域得到应用。 在无尘环境下使用的清洁布领域。在利用其可分解特性的绿化土木材料领域。 在要求高清洁度和高吸取性的茶叶袋过虑用等食品行业材料领域。 在利用其对肌肤擦拭的柔感的化妆品领域。 在人们对感染症问题的意识空前加强，对清洁环境的要求进一步提高的今天， 低生尘性的特长能够得到充分发挥的医疗行业等，它可以满足您的多种需求。
经过特殊加工，很大限度地降低了其发尘量。拥有纸感的擦拭纸,清洁纸盒包装，超强吸水吸溶剂，吸油性超强。卓越的吸收力和储藏性
体积的膨胀概数高可以达到自体体重的13倍并可以吸收水分和卓越的水分储藏力
用棉纤维组织来减少Lint的发生
静电防止技能-用特殊加工处理的静电发生减少化(11%at20degC,65%RH)
环境化合物-用100%celluiose的性质完全燃烧因此不会生成对人有害的2次反应物
具有很好的耐热性(
人体无害性-加工时不使用化学粘着剂(Binder)而应用于人体无害性压力机施工法
包装规格：10*21CM，2折，300张/盒，48盒/箱
产地：日本
品牌：BEMCOT（旭化成）
应用：用于高洁度领域、纸张精细，镜片玻璃，半导体，精密器件，PCB,FPC,实验室，无尘室，洁净室，光学，光电，半导体加工，镜片，玻璃元器件
BEMCOT M-3II擦拭纸： 日本旭化成 BEMCOT M-3 無塵擦拭紙 Cleanroom wiper是Bemcot系列中高级大众化的擦纸巾,它们有超强的吸收力和抗溶解能力.同时也是非常经济的低微粒脱离纸巾. 广泛用于电子及计算机工业,可作为日常清洁和湿液制的万用抹纸，无尘室，电子行业，洁净室，半导体，光学光电产业制造过程清洁擦拭
产品规格：四分折
尺寸：打开250mm*250mm
四分折后：125mm*125mm
包装：100张/包，30包/箱
产地：日本
品牌：旭化成，OZU
日本旭化成 BEMCOT 擦拭纸、口罩和拖把规格表
Savina Minimax是日本KBSEIREN株式会社（原KANEBO）开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品，吸水吸油性极强，不磨损原件。广泛用于光学镜头制造，办公器材保养，10级以上的无尘车间净化室，半导体生产线车间等领域。
日本KBSEIREN原KANEBO公司生产的HITECLOTH 超细纤维无尘布是由Belima.X织成，其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理，不会掉绒毛，超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养
规格：24CM X 24CM
包装：10片/包 100片/盒
主要用于清洁：液晶显示器，液晶显示屏，液晶触摸屏，液晶模组，背光源，偏光片，电子制造，手机组装，光学镜头，光学镜片，光学玻璃，光学眼镜，显微镜，半导体，电子生产线，无尘室，洁净室，实验室，研究所，制药，电影胶片，STN,LED，3D眼镜，办公器材保养，喷涂，航空工业，光学元器件，摄像机，摄像头，数码相机，CCD,航空仪器
High technology fields are growing every day in sophistication and precision. Highly efficient wiping cloths are essential for a strict dust-free environment in the manufacturing of such products as LSIs and LCDs. Savina Minimax was created to readily meet the needs of the times, with excellent functions enough to cope with the ultimate dust-free condition in super clean rooms.
Wipers for use in clean rooms should clean all instruments, apparatuses and peripheral devices while causing no contamination. They are also required to absorb and remove any undesired moisture. Savina Minimax, which contains all properties needed for such wipers, is one of the highest-performance wiping cloths designed for the age of high technology.
Super High-Shrinkage, High-Density Finish
Cross section of Savina Minimax
Surface of Savina Minimax
After knitting on a special high gauge knitting machine, the greige for Savina Minimax is shrunken both lengthwise and widthwise to as much as 40% of its original dimension. It is not treated with binders of any kind to achieve such a dense construction. The resultant wiping cloth has as high a surface area as 25,700 c㎡/g, thus ensuring dust removal without releasing any lint. Conventional wiping cloths have a surface area of only 2,420 c㎡/g.
Features
• Generates only a minuscule amount of lint.
• Absorbs and retains water quickly and positively.
• Has lower dissolution of residual ions and other substances.
• Provides high wiper performance (removes a maximum amount of dust without contaminating the clean room equipment).
Applications
• Production processes for photomagnetic disks, hard disks and floppy disks
• Production processes for deflection plates of liquid crystals and other items
• Compact and magnetic disk production processes
• Video deck production processes
• Contact lens production processes
• Camera assembly lines
• Printed circuit board cleaning processes
• Cleaning processes for camera lenses before coating
• Medicine production line cleaning processes
• Movie film cleaning process
• Production processes for semiconductors and integrated circuits
• Workpiece cleaning process before precision coating
savina无尘布，高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina MINIMAX能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超级无尘室中的极端无尘条件，迈腾净化代理savina mx超细无尘布，TORAYSEE MK,MC,CC，KURARAY SOLIV可乐丽无尘抹布，HUBY-340棉签、
无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MINIMAX具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。 超级高收缩、高密度整理产品 Savina MINIMAX在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/■ 掉毛量极少。■ 迅速而积极地吸收并留住水分。■ 残留离子和其他物质的溶解率较低。■ 具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量，同时不会污染无尘室设备）。■ 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程■ 液晶偏转板以及其他物品的生产过程■ 光盘和磁盘的生产过程■ 录像机的生产过程■ 隐形眼镜的生产过程 ■ 相机装配线■ 印刷电路板的清洁工艺■ 相机镜头镀膜前的清洁工艺■ 药品生产线清洁工艺■ 电影胶片清洁工艺■ 半导体和基础电路的生产过程■ 精密涂层之前工件的清洁过程
无尘布的用途：
1.半导体生产线芯片、微处理器等；
2.半导体装配生产线；
3.碟盘驱动器，复合材料；
4.LCD显示类产品；
5.线路板生产线；
6.精密仪器；
7.光学产品；
8.航空工业；
9.PCB产品；
10.医疗设备；
11.实验室；
12.无尘车间和生产线。
无尘布的用途：
1.半导体生产线芯片、微处理器等；
2.半导体装配生产线；
3.碟盘驱动器，复合材料；
4.LCD显示类产品；
5.线路板生产线；
6.精密仪器；
7.光学产品；
8.航空工业；
9.PCB产品；
10.医疗设备；
11.实验室；
12.无尘车间和生产线。
1.半导体生产线芯片、微处理器等；2.半导体装配生产线；3.碟盘驱动器，复合材料；4.LCD显示类产品；5.线路板生产线；6.精密仪器；7.光学产品；8.航空工业；9.PCB产品；10.医疗设备；11.实验室；12.无尘车间。
特点及优势：
1、优良的除尘效果，配合有防静电功能；
2、高效吸水性；
3、柔软不会损伤物体表面；
4、提供足够的干、湿强度；
5、离子释出量低；
6、不易引起化学反应。
7、可选封边：超音波、激光、冷裁。 适用范围：半导体装配、航空制造及维修、实验室、电子行业、电脑组装、光学仪器制造、LCD液晶显示,精密仪器、光学产品、航空工业, 及线路板生产线等；特适用于无半导体工业，电子工业生产的10级-10000级净化厂房。
８、采用18MΩ超纯CDI清洗，在100级无尘室里包装；四边采用镭射封边，毛、纤维减少、落尘量低、离子释出量低
9、优良的除尘效果，配合有防静电功能；高效吸水性， 柔软不会损伤物体表面；提供足够的干、湿强度；
10、离子释出量低；不易引起化学反应。可选封边：超音波、冷裁
11、无尘布该产品的边缘是由切边机封边，擦拭后不会留下微粒和线头，除污能力强。
12、可采用两边熔边封边，另两边热封边的方法
13、优良的除尘效果，配合有防静电功能，高效吸水性，柔软不会损伤物体表面.
14．采用100%连续聚酯纤维双织布表面柔软，可用于擦拭敏感表面，产尘量低且摩擦不脱纤维，有良好的吸水性及清洁效率。特适用于无尘净化车间。无尘布、无尘擦拭布、超细纤维无尘布、超细纤维擦拭布的边缘是由切边机封边，擦拭后不会留下微粒和线头，除污能力强。可采用两边熔边封边，另两边热封边的方法，或四边熔边封边，能提供更好的封边保护。