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月度归档 3月 2019

进口savina MX无尘布

Savina Minimax是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。

日本KBSEIREN原KANEBO公司生产的HITECLOTH 超细纤维无尘布是由Belima.X织成,其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养

规格:24CM X 24CM

包装:10片/包 100片/盒

主要用于清洁:液晶显示器,液晶显示屏,液晶触摸屏,液晶模组,背光源,偏光片,电子制造,手机组装,光学镜头,光学镜片,光学玻璃,光学眼镜,显微镜,半导体,电子生产线,无尘室,洁净室,实验室,研究所,制药,电影胶片,STN,LED,3D眼镜,办公器材保养,喷涂,航空工业,光学元器件,摄像机,摄像头,数码相机,CCD,航空仪器

进口savina Mx无尘布

High technology fields are growing every day in sophistication and precision. Highly efficient wiping cloths are essential for a strict dust-free environment in the manufacturing of such products as LSIs and LCDs. Savina Minimax was created to readily meet the needs of the times, with excellent functions enough to cope with the ultimate dust-free condition in super clean rooms.
Wipers for use in clean rooms should clean all instruments, apparatuses and peripheral devices while causing no contamination. They are also required to absorb and remove any undesired moisture. Savina Minimax, which contains all properties needed for such wipers, is one of the highest-performance wiping cloths designed for the age of high technology.
Super High-Shrinkage, High-Density Finish
Cross section of Savina Minimax
Surface of Savina Minimax
After knitting on a special high gauge knitting machine, the greige for Savina Minimax is shrunken both lengthwise and widthwise to as much as 40% of its original dimension. It is not treated with binders of any kind to achieve such a dense construction. The resultant wiping cloth has as high a surface area as 25,700 c㎡/g, thus ensuring dust removal without releasing any lint. Conventional wiping cloths have a surface area of only 2,420 c㎡/g.
Features
• Generates only a minuscule amount of lint.
• Absorbs and retains water quickly and positively.
• Has lower dissolution of residual ions and other substances.
• Provides high wiper performance (removes a maximum amount of dust without contaminating the clean room equipment).
Applications
• Production processes for photomagnetic disks, hard disks and floppy disks
• Production processes for deflection plates of liquid crystals and other items
• Compact and magnetic disk production processes
• Video deck production processes
• Contact lens production processes
• Camera assembly lines
• Printed circuit board cleaning processes
• Cleaning processes for camera lenses before coating
• Medicine production line cleaning processes
• Movie film cleaning process
• Production processes for semiconductors and integrated circuits
• Workpiece cleaning process before precision coating

savina无尘布,高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MINIMAX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件,迈腾净化代理savina mx超细无尘布,TORAYSEE MK,MC,CC,KURARAY SOLIV可乐丽无尘抹布,HUBY-340棉签、

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MINIMAX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。 超级高收缩、高密度整理产品 Savina MINIMAX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/■ 掉毛量极少。■ 迅速而积极地吸收并留住水分。■ 残留离子和其他物质的溶解率较低。■ 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量,同时不会污染无尘室设备)。■ 光磁盘、硬盘和软盘的生产过程■ 液晶偏转板以及其他物品的生产过程■ 光盘和磁盘的生产过程■ 录像机的生产过程■ 隐形眼镜的生产过程 ■ 相机装配线■ 印刷电路板的清洁工艺■ 相机镜头镀膜前的清洁工艺■ 药品生产线清洁工艺■ 电影胶片清洁工艺■ 半导体和基础电路的生产过程■ 精密涂层之前工件的清洁过程


无尘布工业擦拭布9寸6寸4寸手机屏幕镜片清洁布

无尘布的用途:
1.半导体生产线芯片、微处理器等;
2.半导体装配生产线;
3.碟盘驱动器,复合材料;
4.LCD显示类产品;
5.线路板生产线;
6.精密仪器;
7.光学产品;
8.航空工业;
9.PCB产品;
10.医疗设备;
11.实验室;
12.无尘车间和生产线。

防静电无尘布 1009 UV喷头喷绘机镜片工业擦拭布除尘布不掉毛9寸

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量大,同时不会污染无尘室设备)。日本savina MX超细纤维无尘布
    Savina MX是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包Savina高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
    无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能很好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计
    超级高收缩、高密度整理产品

    Savina MX的横截面Savina MX的横截面

    Savina MX的表面Savina MX的表面

    Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
    特 色
    掉毛量极少。
    迅速而积极地吸收并留住水分。
    残留离子和其他物质的溶解率较低。
    具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量大,同时不会污染无尘室设备)。
    用 途
    用途
    光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
    液晶偏转板以及其他物品的生产过程
    光盘和磁盘的生产过程
    录像机的生产过程
    隐形眼镜的生产过程
    相机装配线
    印刷电路板的清洁工艺
    相机镜头镀膜前的清洁工艺
    药品生产线清洁工艺
    电影胶片清洁工艺
    半导体和基础电路的生产过程
    精密涂层之前工件的清洁过程
    日本KANEBO公司生产的HITECLOTH超细纤维无尘布是由Belima.X织成,其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包

savina MX日本超细纤维无尘布 24X24 MX100 净化车间专用 液晶

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。日本savina MX超细纤维无尘布
    Savina MX是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包Savina高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
    无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计
    超级高收缩、高密度整理产品

    Savina MX的横截面Savina MX的横截面

    Savina MX的表面Savina MX的表面

    Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
    特 色
    掉毛量极少。
    迅速而积极地吸收并留住水分。
    残留离子和其他物质的溶解率较低。
    具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量最大,同时不会污染无尘室设备)。
    用 途
    用途
    光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
    液晶偏转板以及其他物品的生产过程
    光盘和磁盘的生产过程
    录像机的生产过程
    隐形眼镜的生产过程
    相机装配线
    印刷电路板的清洁工艺
    相机镜头镀膜前的清洁工艺
    药品生产线清洁工艺
    电影胶片清洁工艺
    半导体和基础电路的生产过程
    精密涂层之前工件的清洁过程
    日本KANEBO公司生产的HITECLOTH超细纤维无尘布是由Belima.X织成,其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包

纤维无尘布 洁净无尘室用布无尘净化车间 实验室擦试布 洁净布

纤维无尘布 洁净无尘室用布无尘净化车间 实验室擦试布 洁净布

  • 掉毛量极少。
  • 迅速而积极地吸收并留住水分。
  • 残留离子和其他物质的溶解率较低。
  • 具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量大,同时不会污染无尘室设备)。日本savina MX超细纤维无尘布
    Savina MX是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包Savina高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。
    无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能很好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计
    超级高收缩、高密度整理产品

    Savina MX的横截面Savina MX的横截面

    Savina MX的表面Savina MX的表面

    Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g
    特 色
    掉毛量极少。
    迅速而积极地吸收并留住水分。
    残留离子和其他物质的溶解率较低。
    具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量大,同时不会污染无尘室设备)。
    用 途
    用途
    光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
    液晶偏转板以及其他物品的生产过程
    光盘和磁盘的生产过程
    录像机的生产过程
    隐形眼镜的生产过程
    相机装配线
    印刷电路板的清洁工艺
    相机镜头镀膜前的清洁工艺
    药品生产线清洁工艺
    电影胶片清洁工艺
    半导体和基础电路的生产过程
    精密涂层之前工件的清洁过程
    日本KANEBO公司生产的HITECLOTH超细纤维无尘布是由Belima.X织成,其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养
    规格:24CM X 24CM
    包装:100片/包

防静电无尘布 1009 UV喷头喷绘机镜片工业擦拭布除尘布不掉毛9寸

无尘布的用途:
1.半导体生产线芯片、微处理器等;
2.半导体装配生产线;
3.碟盘驱动器,复合材料;
4.LCD显示类产品;
5.线路板生产线;
6.精密仪器;
7.光学产品;
8.航空工业;
9.PCB产品;
10.医疗设备;
11.实验室;
12.无尘车间和生产线。

超细亚细工业防静电无尘布手机屏幕镜头擦拭布清洁布

1.半导体生产线芯片、微处理器等;2.半导体装配生产线;3.碟盘驱动器,复合材料;4.LCD显示类产品;5.线路板生产线;6.精密仪器;7.光学产品;8.航空工业;9.PCB产品;10.医疗设备;11.实验室;12.无尘车间。

特点及优势:

1、优良的除尘效果,配合有防静电功能;

2、高效吸水性;

3、柔软不会损伤物体表面;

4、提供足够的干、湿强度;

5、离子释出量低;

6、不易引起化学反应。

7、可选封边:超音波、激光、冷裁。 适用范围:半导体装配、航空制造及维修、实验室、电子行业、电脑组装、光学仪器制造、LCD液晶显示,精密仪器、光学产品、航空工业, 及线路板生产线等;特适用于无半导体工业,电子工业生产的10级-10000级净化厂房。

8、采用18MΩ超纯CDI清洗,在100级无尘室里包装;四边采用镭射封边,毛、纤维减少、落尘量低、离子释出量低

9、优良的除尘效果,配合有防静电功能;高效吸水性, 柔软不会损伤物体表面;提供足够的干、湿强度;

10、离子释出量低;不易引起化学反应。可选封边:超音波、冷裁

11、无尘布该产品的边缘是由切边机封边,擦拭后不会留下微粒和线头,除污能力强。

12、可采用两边熔边封边,另两边热封边的方法

13、优良的除尘效果,配合有防静电功能,高效吸水性,柔软不会损伤物体表面.


14.采用100%连续聚酯纤维双织布表面柔软,可用于擦拭敏感表面,产尘量低且摩擦不脱纤维,有良好的吸水性及清洁效率。特适用于无尘净化车间。无尘布、无尘擦拭布、超细纤维无尘布、超细纤维擦拭布的边缘是由切边机封边,擦拭后不会留下微粒和线头,除污能力强。可采用两边熔边封边,另两边热封边的方法,或四边熔边封边,能提供更好的封边保护。

AION E-2洁净室净化海绵擦布

ベルクリン E-2

供应AION 洁净室用海棉 E-1 E-2 D-1 D-2 D-3 S-1无尘纸无尘布

AION洁净室用海绵*全体泡沫构造的不会掉落棉绒的类型*吸水性和连续多孔构造使水分快速吸收*气孔微小,能有效地捕捉(垃圾)污渍.*洗净后可再利用,减少了废弃物.使用方法,注意事项:1,干燥状态的产品请用少量的湿润剂,潮湿状态的产品含有少量防腐剂,使用前请用水洗干净,干燥硬化时,用水软化.2,原则上是用水洗净污渍,拧干后使用是***恰当的,建议使用纯净水洗.3,在用来檫试水以外的药水等的时候请参照以下说明后使用.*放在水里浸渍软化,拧干后再放入药水等浸渍后使用.干燥状态下用水之外的药水浸渍也无法软化.*初次使用时,事先放入水中软化后再放入被使用的液体中浸渍,确认其耐药性,显著膨胀,湿润的场合请不要使用.*干燥时,部分的溶剂等会浓缩,劣化,变形等情况也会出现.*重复使用时,比起用水浸渍,这种耐用期限会显著缩短.洁净室海绵是一款多用途的擦拭清洁工具,可以重复使用,不含硅油,不含离子,经过净化清洗烘干,这款海绵适合擦拭液晶,触摸屏,光电光学产品,欢迎咨询

AION洁净室用海绵

品牌:AION clean room SPONGE

日文名称:アイオン株式会社

产地:日本 OSAKA TKOYO

型号:D-1 D-2 D-3 S-1

名称:清洁用品,清扫用品,洁净擦拭布,洁净海绵PVA,无尘布,无尘纸,AION无尘海绵,PVA拖把

包装:D-1 10枚/袋      D-2 5枚/袋   E-2  5片/袋     起订量1000PCS

产品详细介绍:

*全体泡沫构造的不会掉落棉绒的类型

*吸水性和连续多孔构造使水分快速吸收

*气孔微小,能有效地捕捉(垃圾)污渍.

*洗净后可再利用,减少了废弃物.

使用方法,注意事项:

1,干燥状态的产品请用少量的湿润剂,潮湿状态的产品含有少量防腐剂,使用前请用水洗干净,干燥硬化时,用水软化.

2,原则上是用水洗净污渍,拧干后使用是***恰当的,建议使用纯净水洗.

3,在用来檫试水以外的药水等的时候请参照以下说明后使用.

*放在水里浸渍软化,拧干后再放入药水等浸渍后使用.干燥状态下用水之外的药水浸渍也无法软化.

AION E-2海绵

水を含ませて使用する、きわめてソフトなウエット式ワイパー。微細な気孔がパーティクルや水分を確実にキャッチし、さらに、紙、繊維素材のような毛羽立ちや脱落が無く、再生使用も可能。

*含水時のソフトな風合いにより、あらゆる対象にフィットし、微細な気孔がパーティクルを確実にキャッチします。吸水性、保水性にも優れており、水分も素早く吸収し、保持します。
*PVFM(ポリビニルホルマール)樹脂の一体構造素材の為、紙、繊維素材のような毛羽立ちや脱落が無く、耐摩耗性にも優れております。その為、再生使用も可能です。
手で拭き取るタイプと床面や壁面などの清掃に**適なモップタイプがあります。クリーンルームはもちろんの事、清浄な環境保全が要求される場所で、幅広く御使用頂けます。

仕様*用途?業界?対象?使用方法?注意事項

仕様
品番[平均気孔径(μm)]:サイズ/梱包単位(包装単位)/製品状態
(1)E-1[130]:約230×230×1mm/400枚(10枚/袋×40袋)/DRY(乾燥品:湿潤剤含浸)
(2)E-2[130]:約230×230×2mm/200枚(5枚/袋×40袋))/DRY(乾燥品:湿潤剤含浸)
(3)D-1[80]:約230×230×1mm/400枚(10枚/袋×40袋))/DRY(乾燥品:湿潤剤含浸)
(4)D-2[80]:約230×230×2mm/200枚(5枚/袋×40袋))/DRY(乾燥品:湿潤剤含浸)
(5)D-3[80]:約125×85×35mm/75個(1個/袋)/WET(含水品:防カビ剤含浸)
(6)S-1[80(μm)]:約430×325×1.5mm/120枚(1枚/袋)/WET(含水品:防カビ剤含浸)

用途:拭き取り、吸水

業界?対象:電子部品?食品?病院等のクリーンルーム内、一般工場内、電子?光学機器、作業台、他

使用方法
?ドライ状態の製品(E-1、E-2、D-1、D-2は、微量の湿潤剤を、ウエット状態の製品(D-3、S-1)は、微量の防カビ剤を含んでいますので、使用前に、水で良く洗浄して下さい。また、乾燥し、硬化した場合は、水を含ませ、軟化した状態で、ご使用下さい。
?水に浸漬し、よく絞った後に使用するのが***適です。使用される水は純水をおすすめします。
?水以外の薬液などの拭き取り材としてお使いになる場合は、下記の注意事項を参照の上、お使い下さい。

注意事項
?水以外の薬液などの拭き取り材としてお使いになる場合は、水に浸漬して柔軟化させ、よく絞った後、薬液などに浸漬し、ご使用下さい。ドライ状態で、水以外の薬液に浸漬しても柔軟化しません。
?初めてご使用になる場合は、事前に水で柔軟化させた後、使用される液に浸漬し、耐薬品性を確認して下さい。著しく膨潤する場合は使用しないで下さい。
?乾燥させた場合、部分的に溶剤などか濃縮され、劣化?変形などか起こる事があります。
?繰り返し使用した場合、水での使用にくらべて、耐用期間が著しく短くなる事があります。